HOME > 口頭発表 > 書誌詳細高圧を活用したルチル型GeO2薄膜のガラス基板上への作製柴田 敬司, 川村 史朗, 宮川 仁, 遊佐 斉, 山田 直臣. 第86回 応用物理学会秋季学術講演会. 2025年09月07日-2025年09月10日.NIMS著者川村 史朗宮川 仁遊佐 斉Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2025-09-11 03:14:06 +0900 更新時刻: 2025-09-11 03:14:06 +0900
