HCl-based halide vapor phase epitaxy and HCl gas etching on (-112) β-Ga2O3 substrates
The 6th International Workshop on Gallium Oxide and Related Materials (IWGO 2026). 2026年08月02日-2026年08月07日.
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作成時刻: 2026-08-19 03:12:15 +0900 更新時刻: 2026-08-19 03:12:15 +0900