HOME > 口頭発表 > 書誌詳細アモルファス酸化物薄膜半導体 In-Si-O 薄膜の相安定性(Phase Stability of Amorphous Oxide Semiconductor In-Si-O Thin Films)堀 龍輝, Ha Hong, 生田目 俊秀, 塚越 一仁, 藤原 明比古. 第66回応用物理学会春季学術講演会. 2019.NIMS著者生田目 俊秀塚越 一仁Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2019-04-02 19:23:15 +0900更新時刻: 2019-04-02 19:23:15 +0900