硬X線を用いたメタルゲート／High-k絶縁膜ゲートスタック構造の非破壊観察
(Characterization of metal/high-k dielectrics stacking structures using hard x-ray photoelectron spectroscopy)
2007年春季 第54回応用物理学関係連合講演会. 2007.
NIMS著者
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作成時刻: 2017-01-08 04:52:10 +0900更新時刻: 2017-07-10 19:52:49 +0900