アトムプローブ法によるGe/Siコアシェルナノワイヤ中の不純物分布
(Dopant Distribution in Ge / Si Core-Shell Nanowires Investigated by Atom Probe Tomography)
2015 MRS Fall Meeting. 2015年11月29日-2015年12月04日.
NIMS著者
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作成時刻: 2017-01-08 03:58:14 +0900 更新時刻: 2017-07-10 22:20:07 +0900