HOME > Presentation > Detailアトムプローブ法によるGe/Siコアシェルナノワイヤ中の不純物分布(Dopant Distribution in Ge / Si Core-Shell Nanowires Investigated by Atom Probe Tomography)Bin Han, 清水康雄, 井上耕治, ジェバスワン ウイパコーン, 深田 直樹, 永井康介. 2015 MRS Fall Meeting. 2015.NIMS author(s)JEVASUWAN, WipakornFUKATA, NaokiFulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)Created at: 2017-01-08 03:58:14 +0900Updated at: 2017-07-10 22:20:07 +0900