HOME > 口頭発表 > 書誌詳細原子層堆積法によるHf系酸化膜の作製とその特性(Preparation and Characteristics of Hf-based oxide film by atomic layer deposition)生田目 俊秀. 第4回原子層プロセスワークショップ. 2019. 招待講演NIMS著者生田目 俊秀Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2019-10-02 03:00:22 +0900更新時刻: 2024-03-05 12:21:09 +0900