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原子層堆積法によるHf系酸化膜の作製とその特性
(Preparation and Characteristics of Hf-based oxide film by atomic layer deposition)
第４回原子層プロセスワークショップ. 2019-06-21. Invited
NIMS author(s)
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Created at: 2019-10-02 03:00:22 +0900Updated at: 2024-03-05 12:21:09 +0900