SAMURAI - NIMS Researchers Database

HOME > 口頭発表 > 書誌詳細

Mechanism of Vfb shift in HfO2 gate stack by Al diffusion from (TaC)1-xAlx gate electrode
((TaC)1-xAlx電極からのAl拡散によるHfO2ゲートスタックにおけるVfbシフトのメカニズム)

221st ECS Meeting. 2012年05月06日-2012年05月11日. 招待講演

NIMS著者


Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット


    作成時刻: 2022-09-05 13:20:27 +0900更新時刻: 2024-03-05 11:43:44 +0900

    ▲ページトップへ移動