HOME > 公開特許出願 > 書誌詳細[公開特許出願] 窒化ガリウム層の表面処理方法及び半導体デバイス2023-06-15. WO2023106346 (Google Patents) 202324537 (Google Patents) TW202324537 (Google Patents) NIMS著者知京 豊裕松田 朝彦長田 貴弘作成時刻 :2023-07-22 21:46:20 +0900 更新時刻 :2023-07-22 21:46:20 +0900
