HOME > 公開特許出願 > 書誌詳細[公開特許出願] ホイスラー合金薄膜およびその製造方法、磁気抵抗効果素子、磁気メモリ2016-07-25. 特開2016134520号 (Google Patents) NIMS著者宝野 和博佐々木 泰祐桜庭 裕弥作成時刻 :2023-07-22 21:45:49 +0900 更新時刻 :2023-07-22 21:45:49 +0900
