HOME > 公開特許出願 > 書誌詳細[公開特許出願] リフトオフ法、超微細2次元パターンアレイ及びプラズモンデバイスの製造方法2016-04-04. 特開2016046408号 (Google Patents) , 特許6341539号NIMS著者笠谷 岳士宮崎 英樹作成時刻 :2023-07-22 21:45:47 +0900 更新時刻 :2023-07-22 21:45:47 +0900