(Invited) Fabrication Technique of Ferroelectric Hf<sub>x</sub>Zr<sub>1−X</sub>O<sub>2</sub> Thin Films Using ALD-ZrO<sub>2</sub> Nucleation Layers | 研究者総覧SAMURAI - 物質・材料研究機構 (NIMS)

HOME > その他の文献 > 書誌詳細

(Invited) Fabrication Technique of Ferroelectric Hf_xZr_1−XO₂ Thin Films Using ALD-ZrO₂ Nucleation Layers

ECS Transactions 112 [1] 75-88. 2023.

https://doi.org/10.1149/11201.0075ecst

NIMS著者

女屋崇

Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット

作成時刻: 2026-06-18 03:05:51 +0900 更新時刻: 2026-09-21 04:34:23 +0900

▲ページトップへ移動