高周波シランガスプラズマを用いた高品質微結晶シリコン薄膜の高速作製
(High-rate-growth of high-quality microcrystalline silicon films by very-high-frequency SiH4/H2 plasma)
NIMS著者
Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット
作成時刻: 2017-01-08 04:03:37 +0900更新時刻: 2017-04-06 20:03:32 +0900