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Purity and flatness control of interfaces between silicide and Si by H termination of Si surfaces
(Si表面のH終端化によるシリサイド/Si界面の純度と平坦性の制御)

檜貝信一, OHNO, Takahisa, 檜貝信一.

NIMS著者


Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット


    作成時刻 :2022-11-15 00:39:54 +0900 更新時刻 :2022-11-15 00:39:54 +0900

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