Purity and flatness control of interfaces between silicide and Si by H termination of Si surfaces
(Si表面のH終端化によるシリサイド/Si界面の純度と平坦性の制御)
NIMS著者
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作成時刻: 2022-11-15 00:39:54 +0900更新時刻: 2022-11-15 00:39:54 +0900