HOME > 論文 > 書誌詳細Purity and flatness control of interfaces between silicide and Si by H termination of Si surfaces(Si表面のH終端化によるシリサイド/Si界面の純度と平坦性の制御)檜貝信一, OHNO, Takahisa, 檜貝信一. Applied Surface Science . .NIMS著者大野 隆央Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻 :2022-11-15 00:39:54 +0900 更新時刻 :2022-11-15 00:39:54 +0900