Near-surface Sensitive Infrared Reflection Spectroscopy on SiO2 Implanted with High-flux Negative ions
(大電流負イオン注入されたSiO2の表面近傍敏感赤外反射分光)
NIMS著者
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作成時刻: 2016-05-24 11:57:17 +0900 更新時刻: 2026-10-08 08:04:56 +0900