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NIMS Awardシンポジウム2026

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Hot-Pressed Silicon Nitride with Lu2O3 Additives:Oxitation and Its Effect on Strength
(Lu2O3を添加したホットプレス窒化ケイ素の1400℃と1500℃における酸化挙動と酸化後の強度)

Shuqi Guo, Naoto Hirosaki, Toshiyuki Nishimura, Yoshinobu Yamamoto, Mamoru Mitomo.

NIMS著者


Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット


    作成時刻: 2016-05-24 11:59:40 +0900 更新時刻: 2026-10-08 08:02:17 +0900

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