HOME > 論文 > 書誌詳細Hot-Pressed Silicon Nitride with Lu2O3 Additives:Oxitation and Its Effect on Strength(Lu2O3を添加したホットプレス窒化ケイ素の1400℃と1500℃における酸化挙動と酸化後の強度)Shuqi Guo, Naoto Hirosaki, Toshiyuki Nishimura, Yoshinobu Yamamoto, Mamoru Mitomo. Journal of the American Ceramic Society 86 [11] 1900-1905. 2003.https://doi.org/10.1111/j.1151-2916.2003.tb03579.x NIMS著者郭 樹啓廣崎 尚登西村 聡之Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2016-05-24 11:59:40 +0900更新時刻: 2024-04-02 06:28:40 +0900