Implantation of 60 keV copper negative ion into thin SiO2 films on Si: Thermal stability of Cu nanoparticles and recovery of rad
(Si上のSiO2薄膜への60keV負イオン注入：Cuナノ粒子の熱安定性と照射欠陥の回復)
NIMS著者
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作成時刻: 2016-05-24 11:56:17 +0900 更新時刻: 2026-09-28 04:16:23 +0900