HOME > 論文 > 書誌詳細シリコン酸チッ化中の表面応力変動(Surface stress during plasma oxidation and following Nitridation)板倉 明子, 成島哲也, 北島 正弘, Tetsuya NARUSHIMA. SHINKU 45 [3] 127-129. 2002.https://doi.org/10.3131/jvsj.45.127 NIMS著者板倉 明子Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻 :2016-05-24 11:45:56 +0900 更新時刻 :2024-03-29 17:40:36 +0900