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Influence of reacting nitrogen gas consistence on the properties of TiN films prepared by rf. magnetron sputtering

Y. Pihosh, M. Goto, A. Kasahara, T. Oishi, M. Tosa.
Applied Surface Science 244 [1-4] 244-247. 2005.

NIMS著者


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    作成時刻 :2016-05-24 14:52:32 +0900 更新時刻 :2020-11-16 22:58:00 +0900

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