Characteristics of Thin Films of Hexagonal Boron Nitride Mixed with Copper Controlled by a Magnetron Co-sputtering Deposition Te
(マグネトロンコ・スパッタ成膜法により制御された六方晶窒化ホウ素・銅混合薄膜の特性)
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作成時刻: 2016-05-24 11:45:13 +0900 更新時刻: 2026-10-03 05:56:03 +0900