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Growth of stable amorphous silicon films by gas-flow-controlled RF plasma-enhanced chemical vapour deposition
(ガス流制御RFプラズマCVD法による高安定アモルファスSi膜成長)

Chisato Niikura, Akihisa Matsuda.
physica status solidi (a) 207 [3] 521-524. 2010.

NIMS著者


Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット


    作成時刻: 2018-06-08 20:40:14 +0900更新時刻: 2025-01-11 06:05:41 +0900

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