HOME > 論文 > 書誌詳細Improved transport properties of microcrystalline silicon films grown by HWCVD with a variable hydrogen dilution process(HWCVD法によりシランの水素希釈率を変化させて作製した微結晶シリコン膜におけるキャリア輸送特性の向上)NIIKURA, Chisato, Romain Brenot, Joelle Guillet, Jean-Eric Bourée. THIN SOLID FILMS 568-571. 2008.NIMS著者新倉 ちさとMaterials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2022-10-21 22:24:54 +0900更新時刻: 2022-10-21 22:24:54 +0900