HOME > 論文 > 書誌詳細Leakage Current Distribution of Cu-Contaminated Thin SiO2(銅で汚染されたSiO2薄膜のリーク電流分布)Norio Tokuda, Takahiro Kanda, Satoshi Yamasaki, Kazushi Miki, Kikuo Yamabe. Japanese Journal of Applied Physics 42 [Part 2, No. 2B] L160-L162. 2003.https://doi.org/10.1143/jjap.42.l160 NIMS著者Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2016-05-24 11:55:41 +0900 更新時刻: 2026-05-25 08:51:48 +0900
