Critical review of the current status of thickness measurements for ultrathin SiO2 on Si Part V: Results of a CCQM pilot study

M. P. Seah; S. J. Spencer; F. Bensebaa; I. Vickridge; H. Danzebrink; M. Krumrey; T. Gross; W. Oesterle; E. Wendler; B. Rheinländer; Y. Azuma; I. Kojima; N. Suzuki; M. Suzuki; S. Tanuma; D. W. Moon; H. J. Lee; Hyun Mo Cho; H. Y. Chen; A. T. S. Wee; T. Osipowicz; J. S. Pan; W. A. Jordaan; R. Hauert; U. Klotz; C. van der Marel; M. Verheijen; Y. Tamminga; C. Jeynes; P. Bailey; S. Biswas; U. Falke; N. V. Nguyen; D. Chandler-Horowitz; J. R. Ehrstein; D. Muller; J. A. Dura; M. P. Seah; S. J. Spencer; F. Bensebaa; I. Vickridge; H. Danzebrink; M. Krumrey; T. Gross; W. Oesterle; E. Wendler; B. Rheinländer; Y. Azuma; I. Kojima; N. Suzuki; M. Suzuki; S. Tanuma; D. W. Moon; H. J. Lee; Hyun Mo Cho; H. Y. Chen; A. T. S. Wee; T. Osipowicz; J. S. Pan; W. A. Jordaan; R. Hauert; U. Klotz; C. van der Marel; M. Verheijen; Y. Tamminga; C. Jeynes; P. Bailey; S. Biswas; U. Falke; N. V. Nguyen; D. Chandler-Horowitz; J. R. Ehrstein; D. Muller; J. A. Dura

doi:10.1002/sia.1909

Critical review of the current status of thickness measurements for ultrathin SiO2 on Si Part V: Results of a CCQM pilot study

M. P. Seah, S. J. Spencer, F. Bensebaa, I. Vickridge, H. Danzebrink, M. Krumrey, T. Gross, W. Oesterle, E. Wendler, B. Rheinländer, Y. Azuma, I. Kojima, N. Suzuki, M. Suzuki, S. Tanuma, D. W. Moon, H. J. Lee, Hyun Mo Cho, H. Y. Chen, A. T. S. Wee, T. Osipowicz, J. S. Pan, W. A. Jordaan, R. Hauert, U. Klotz, C. van der Marel, M. Verheijen, Y. Tamminga, C. Jeynes, P. Bailey, S. Biswas, U. Falke, N. V. Nguyen, D. Chandler-Horowitz, J. R. Ehrstein, D. Muller, J. A. Dura.

Surface and Interface Analysis 36 [9] 1269-1303. 2004.

https://doi.org/10.1002/sia.1909

NIMS author(s)

Fulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)

Created at: 2016-05-24 14:34:23 +0900 Updated at: 2026-04-25 05:38:27 +0900