Surface stress in thin oxide layer made by plasma oxidation with applying positive bias
(正バイアスを印加してプラズマ酸化したシリコン酸化層の表面応力)
NIMS著者
Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット
作成時刻: 2016-05-24 11:41:29 +0900 更新時刻: 2018-12-15 01:03:49 +0900