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グラフェンの特性を活かす六方晶窒化ホウ素基板〜六方晶窒化ホウ素応用の新展開〜
(Hexagonal boron nitride substrate for high-quality graphene)

著者渡邊 賢司, 谷口 尚.
掲載誌名NEW DIAMOND 104(28) [1] 37-39
出版社
発表年2012
言語Japanese

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