HOME > 論文 > 書誌詳細グラフェンの特性を活かす六方晶窒化ホウ素基板〜六方晶窒化ホウ素応用の新展開〜(Hexagonal boron nitride substrate for high-quality graphene)渡邊 賢司, 谷口 尚. NEW DIAMOND 104(28) [1] 37-39. 2012.NIMS著者渡邊 賢司谷口 尚Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻 :2016-05-24 16:31:51 +0900 更新時刻 :2018-12-14 22:09:20 +0900