Mechanism of ion track formation in silicon by much lower energy deposition than the formation threshold
| 著者 | H Amekura, K Narumi, A Chiba, Y Hirano, K Yamada, S Yamamoto, N Ishikawa, N Okubo, M Toulemonde, Y Saitoh. |
|---|---|
| 掲載誌名 | Physica Scripta 98 [4] 045701 ISSN: 00318949, 14024896 ESIでのカテゴリ: PHYSICS |
| 出版社 | IOP Publishing |
| 発表年 | 2023 |
| 言語 | English |
| DOI | https://doi.org/10.1088/1402-4896/acbbf5 |
| 本文ファイル・データセット | |
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