Comparative study of TiO2　anatase epitaxial thin films grown by magnetron sputtering and metal organic chemical vapor depositio | 研究者総覧SAMURAI - 物質・材料研究機構 (NIMS)

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Comparative study of TiO2　anatase epitaxial thin films grown by magnetron sputtering and metal organic chemical vapor depositio
(MOCVDおよびスパッタリングで作製したアナターゼエピタキシャル膜の比較研究)

Masayuki Kamei, Takahira Miyagi, Tomoyuki Ogawa, Takefumi Mitsuhashi, Atsushi Yamazaki, Tetsuya Sato.

Japanese Journal of Applied Physics 42 [Part 1, No. 11] 7025-7028. 2003.

https://doi.org/10.1143/jjap.42.7025

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作成時刻: 2016-05-24 11:58:05 +0900更新時刻: 2024-04-30 06:01:29 +0900

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