HOME > 論文 > 書誌詳細In situ Metal Mask for Selective Area Growth of Thin Epitaxial Layers(極薄膜エピタキシャル選択成長のための”その場”メタルマスク)Shunsuke Ohkouchi, Nobuhiko Ozaki, Yoshiaki Takata, Yoshinori Kitagawa, Yusui Nakamura, IKEDA, Naoki, SUGIMOTO, Yoshimasa, Kiyoshi Asakawa. JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 2987-2990. 2008.NIMS著者池田 直樹Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2022-10-21 22:42:11 +0900更新時刻: 2022-10-21 22:42:11 +0900
