半導体用フォトレジストポリマーでは、モノマー配列がパターン形成時のエッジラフネス（LER）に影響すると考えられています。しかし、配列を直接解析する手法がなく、検証は困難でした。本研究では、配列が熱安定性に影響することに着目し、分解温度プロファイルから配列分布を復元する逆問題として解析を実施。従来困難だったレジストポリマーの配列解析を実現し、配列と脱保護感度の関係を明らかにしました。LER改善に資する技術として期待されます。

作成時刻: 2026-02-13 03:06:10 +0900 更新時刻: 2026-04-16 04:33:33 +0900