Removal of Si(111) wafer surface etch pits generated in ammonia-peroxide clean step
(Si 表面にアンモニア過酸化水素のクリーンなステップで生成されました穴の除去)
NIMS著者
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作成時刻: 2016-05-24 12:00:03 +0900更新時刻: 2024-04-01 23:15:48 +0900