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Guiding Principles for Obtaining High-Quality Microcrystalline Silicon at High Growth Rates Using SiH4/H2 Glow-Discharge Plasma
(SiH4/H2 グロー放電プラズマによる高品質微結晶シリコン高速作製指針)

Chisato Niikura, Naho Itagaki, Akihisa Matsuda.
Japanese Journal of Applied Physics 46 [5A] 3052-3058. 2007.

NIMS著者


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    作成時刻: 2016-05-24 15:13:42 +0900更新時刻: 2025-02-09 05:03:17 +0900

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