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Formation and migration energies of a vacancy and an interstitial in a high-purity Si crystal determined by detecting complexes of point defects and hydrogen: Evaluation of activation energies of self-diffusion
(水素-点欠陥複合体を利用した高純度Si結晶中の空孔の形成、移動エネルギー)

Masashi Suezawa, Naoki Fukata, Yoshiaki Iijima, Ichiro Yonenaga.

NIMS著者


    Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット


      作成時刻 :2016-05-24 17:34:30 +0900 更新時刻 :2020-11-16 22:35:41 +0900

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