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著者名Karolin Jiptner, Bing Gao, Hirofumi Harada, Yoshiji Miyamura, Masayuki Fukuzawa, Koichi Kakimoto, Takashi Sekiguchi.
タイトルThermal stress induced dislocation distribution in directional solidification of Si for PV application
掲載誌名Journal of Crystal Growth 408 19 24
ISSN: 00220248
発表年2014
言語English
DOI10.1016/j.jcrysgro.2014.09.017
ESIでのカテゴリCHEMISTRY
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