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著者名茂筑 高士, 土屋 佳則, 鈴木悠介, 藤井 宏樹, 松下 能孝, 坂田 修身, 田中 雅彦, 勝矢 良雄.
タイトルCuをドープしたトポロジカル絶縁体CuxBi2Se3の結晶構造
(Crystal Structure of Cu-doped Topological Insulator CuxBi2Se3)
掲載誌名Spring-8/SACLA利用研究成果集 3 1 17 19
ISSN: 21876886
発表年2015
言語Japanese
ESIでのカテゴリ

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