Nanoparticle Formation and Microstructural Changes in Silicon Thermal Oxide Induced by High-flux Negative Copper Implantation | 研究者総覧SAMURAI - 物質・材料研究機構 (NIMS)

HOME > 論文 > 書誌詳細

Nanoparticle Formation and Microstructural Changes in Silicon Thermal Oxide Induced by High-flux Negative Copper Implantation
(大電流負Cuイオン注入によるシリコン熱酸化膜中のナノ粒子形成とミクロ構造変化)

AMEKURA, Hiroshi, 梅田直樹, 大久保成彰, 李致圭, TAKEDA, Yoshihiko, KISHIMOTO, Naoki.

NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS 345-349. 2001.

NIMS著者

Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット

作成時刻: 2022-11-15 00:39:43 +0900 更新時刻: 2022-11-15 00:39:43 +0900

▲ページトップへ移動