Size and depth distributions of nickel nanoparticles in SiO2 fabricated by negative-ion implantation of 60 keV | 研究者総覧SAMURAI - 物質・材料研究機構 (NIMS)

HOME > 論文 > 書誌詳細

Size and depth distributions of nickel nanoparticles in SiO2 fabricated by negative-ion implantation of 60 keV
(60 keV負イオン注入法でSiO2中に作製したNiナノ粒子のサイズおよび深さ分布)

AMEKURA, Hiroshi, UMEDA, Naoki, TAKEDA, Yoshihiko, KITAZAWA, Hideaki, KISHIMOTO, Naoki.

TRANSACTION OF THE MATERIALS RESEARCH SOCIETY OF JAPAN 28 [2] 465-468. 2003.

NIMS著者

Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット

作成時刻: 2016-05-24 11:51:17 +0900 更新時刻: 2018-12-15 00:48:07 +0900

▲ページトップへ移動