レーザーアブレーション法により生成したSiナノ細線-酸化による細線径および応力の制御と不純物ドーピング-
(Silicon nanowires synthesized by laser ablation –Control of diameter and stress by thermal oxidation and impurity doping-)
NIMS著者
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作成時刻: 2016-05-24 15:06:43 +0900更新時刻: 2018-05-30 18:40:27 +0900