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Atomic-scale characterization of highly doped Si impurities in GaAs using scanning tunneling microscopy

著者Nobuyuki Ishida, Takaaki Mano, Takeshi Noda.
掲載誌名Applied Surface Science 583 152373
ISSN: 01694332
ESIでのカテゴリ: MATERIALS SCIENCE
出版社Elsevier BV
発表年2022
言語English
DOIhttps://doi.org/10.1016/j.apsusc.2021.152373
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