NIMSでは、印刷・塗布プロセスによって電子デバイスや回路を形成するプリンテッドエレクトロニクスの研究開発を行っている。特に、材料から印刷プロセス、およびアプリケーションまで一貫した開発を行っていることが特徴である。これまでに、新たな塗布型金属材料として、室温導電性を有する金属ナノ粒子インクと、大気安定性を有する銅錯体インクの開発を行った。さらに、表面に微細な極性・無極性パターンを施すことで、線幅 0.6 μmが可能な微細印刷技術を開発した。加えて、全印刷プロセスによる薄膜トランジスタの形成に早くから成功しており、現在では全印刷トランジスタ素子の動作電圧を1 Vまで低減することに成功している。これらの技術を利用して、印刷で大量に形成できるセンサ素子といったアプリケーション開発を行っている。これらの成果は、NIMS発ベンチャー企業である株式会社プリウェイズを通して、社会実装が進んでいる。