Near-surface Sensitive Infrared Reflection Spectroscopy on SiO2 Implanted with High-flux Negative-ions
(大電流負イオン照射されたSiO2の近表面選択赤外分光)
NIMS著者
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作成時刻: 2017-02-27 00:17:58 +0900 更新時刻: 2017-03-17 02:21:06 +0900