The formation mechanism of the V3Ga phase on the high Ga contentCu-Ga compound/V diffusion reaction through the high-temperature XRD analysis
| 著者 | Y. Hishinuma, A. Kikuchi, S. Murakami, K. Matsuda, H. Taniguchi, T. Takeuchi. |
|---|---|
| 発表誌名 | PHYSICS PROCEDIA |
| 発表年 | 2012 |
| 言語 | English |
| DOI | https://doi.org/10.1016/j.phpro.2012.06.120 |
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| 公開範囲 | インターネット公開 |
| 作成時刻 / 更新時刻 | 2017-02-27 02:06:56 +0900 / 2017-03-17 04:14:37 +0900 |