Characteristics of Low Pressure Inductively Coupled VHF Plasma Used for Nanostructured Carbon Deposition
(ナノカーボン合成用VHFプラズマの特性)
NIMS著者
Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット
作成時刻: 2017-02-27 00:20:40 +0900 更新時刻: 2017-03-17 02:23:33 +0900