Patterned Ion Implantation to Insulators by Using Stencil Masks of Si Thin Film and Porous Alumina
(Si薄膜及び多孔質アルミナのステンシルマスクを用いた絶縁体へのパターンイオン注入)
NIMS著者
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作成時刻: 2017-02-27 01:32:20 +0900 更新時刻: 2017-03-17 03:34:09 +0900