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著者名大場弘則, 鈴木 裕, 江坂文考, 田口富嗣, 山田洋一, 山本博之, 笹瀬雅人, 横山 淳.
タイトル同位体選択的赤外多光子解離されたフロロシランからの同位体濃縮Si薄膜の作製
(Formation of Isotopically Enriched Silicon Film from Fluorosilane Produced by Isotopically Selective Infrared Multiphoton Dissociation)
発表誌名JOURNAL OF THE VACUUM SOCIETY OF JAPAN
発表年2009
言語Japanese

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