同位体選択的赤外多光子解離されたフロロシランからの同位体濃縮Si薄膜の作製
(Formation of Isotopically Enriched Silicon Film from Fluorosilane Produced by Isotopically Selective Infrared Multiphoton Dissociation)
| 著者 | 大場弘則, 鈴木 裕, 江坂文考, 田口富嗣, 山田洋一, 山本博之, 笹瀬雅人, 横山 淳. |
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| 発表誌名 | JOURNAL OF THE VACUUM SOCIETY OF JAPAN |
| 発表年 | 2009 |
| 言語 | Japanese |