同位体選択的赤外多光子解離されたフロロシランからの同位体濃縮Si薄膜の作製
(Formation of Isotopically Enriched Silicon Film from Fluorosilane Produced by Isotopically Selective Infrared Multiphoton Dissociation)
NIMS著者
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作成時刻: 2017-02-27 01:37:16 +0900 更新時刻: 2017-09-06 21:47:28 +0900