メタルゲート界面近傍のHigh-k絶縁膜バンド構造と電気特性に関する研究
(Basic Study of Band Structure and Electronic Properties of High-k Dielectric Thin Films near the Metal Gate Interface)
NIMS著者
Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット
作成時刻: 2017-02-27 01:28:15 +0900更新時刻: 2017-03-17 03:29:24 +0900