低速陽電子ビームを用いたhigh-kゲート絶縁膜の空隙の評価
(Characterization of Open Volukes in High-k Gate Dielectrics by Using Monoenergetic Positron Beams)
NIMS著者
Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット
作成時刻: 2017-02-27 01:06:24 +0900更新時刻: 2017-03-17 03:06:11 +0900