HOME > 口頭発表 > 書誌詳細MOCVD法による酸化亜鉛薄膜成長(ZnO film grown by MOCVD)角谷 正友, 藤本 英司, 鯉沼 秀臣. 東北大学金属材料研究所ワークショップ「酸化亜鉛半導体テクノロジー. 2007年12月20日-2007年12月21日. 招待講演NIMS著者角谷 正友Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-01-08 03:30:43 +0900 更新時刻: 2024-03-05 11:41:49 +0900
