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大電流負重イオン注入による絶縁体の材料改質とスパッタリング過程
(Material Modification of Insulators ad the Sputtering Process Induced by Negative-Heavy-Ion Implantation at High Dose Rates)
日本工業技術振興協会 スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部. 1998-07-10.
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Created at: 2017-02-18 01:29:58 +0900 Updated at: 2017-07-10 17:49:20 +0900